Branża elektroniczna nieustannie się rozwija, zyskując nowe poziomy zaawansowania. Nowe pomysły, przydatne urządzenia – wszystko to wymaga ciągłego rozwoju. Co za tym idzie, potrzebne są nowe technologie i wynalazki, które będą współgrać z tym rozwojem. Warto dowiedzieć się, czym jest epitaksja i epi-wafer, oraz jakie jest ich znaczenie w nowoczesnej technologii. 

Kilka słów na temat epitaksji

Epitaksja stanowi sposób tworzenia warstw półprzewodnikowych. Cały proces polega na nakładaniu kolejnych warstw kryształu na istniejące już podłoże o charakterze krystalicznym. Dzięki temu, powielona zostaje pierwsza warstwa podłoża, która zbudowana jest najczęściej z arsenku galu, lub fosforku indu. Wyróżnić można kilka jej rodzajów: epitaksja z fazy ciekłej, VPE- epitaksja z fazy gazowej, MBE- epitaksja z wiązek molekularnych, a także MOVPE- czyli epitaksja z fazy gazowej z wykorzystaniem związków metaloorganicznych. Z powodzeniem wykorzystywana jest w produkcji urządzeń półprzewodnikowych. Na stronie ent-epitaxy.com znaleźć można profesjonalną ofertę warstw epitaksjalnych III-V, które wytwarzane są za pomocą epitaksji MOCVD. Oznacza to, że są one produkowane jak opisano wcześniej, poprzez nakładanie na siebie kolejnych krystalicznych warstw. Takie rozwiązania, z powodzeniem mogą być wykorzystywane przy produkcji laserów, a także fotodetektorów, a nawet tranzystorów. Znaleźć tam można również ofertę profesjonalnych epi-wafer, które posiadają optymalną grubość, odpowiednio opracowany skład chemiczny, oraz idealną odtwarzalność i jednorodność, uzyskane dzięki najlepszym urządzeniom pomiarowym.

Czym jest epi-wafer?

Epi-wafer stanowi materiał, wytworzony w wyniku wzrostu epitaksji. Wzrost taki polega na wzroście kryształów rozprowadzanych na krysztale podłoża, dzięki czemu powstaje epi-wafer. Może być on zbudowany z monokrystalicznego krzemu albo z innych materiałów, charakteryzujących się określonymi właściwościami. Epi-wafer powinien posiadać odpowiedniej grubości strukturę i posiadać odpowiednie właściwości fotoniczne i elektryczne. Epi-wafer może być wykorzystywany jako:

• element diody,
• część tranzystora,
• podłoże dla układów scalonych typu bipolarnego albo typu MOS,
• produkcja zintegrowanych elementów półprzewodnikowych,
• produkcja niektórych półprzewodników mocy,
• wytwarzanie przewodników obrazu,
• ogniwa fotowoltaiczne,
• wykrywanie 3D,
• w urządzeniach zasilających, co wpływa na małe wymiary i energooszczędność w urządzeniach stanowiących źródło energii.

Epi-wafer z powodzeniem może być wykorzystywany w takich dziedzinach jak fotonika, mikroelektronika, spintronika lub fotowoltaika. Warto odwiedzić podaną wcześniej stronę ent-epitaxy.com i skorzystać z najlepszej jakości epi-wafli, wytwarzanych przez specjalistów.

Artykuł zewnętrzny